產(chǎn)品概述

　　無(wú)掩膜光刻機(jī)是一款高精度、高效能的光刻設(shè)備，專(zhuān)為微納米技術(shù)、MEMS、光學(xué)元件制造等領(lǐng)域設(shè)計(jì)。

　　該設(shè)備采用先進(jìn)的無(wú)掩膜光刻技術(shù)，支持快速圖形變化和高分辨率控制，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微電子研發(fā)和光學(xué)器件生產(chǎn)等高精度需求的領(lǐng)域。

　　憑借其專(zhuān)業(yè)的加工精度和靈活的操作界面，無(wú)掩膜光刻機(jī)大大提升了生產(chǎn)效率，滿足了小批量和精細(xì)化生產(chǎn)的需求。

　　產(chǎn)品特點(diǎn)

　　靈活設(shè)計(jì)：無(wú)需掩膜，快速更改圖案，適合原型和定制。

　　高分辨率：實(shí)現(xiàn)微米至納米級(jí)精細(xì)光刻。

　　高效流程：減少制程時(shí)間，提升生產(chǎn)效率。

　　多材料兼容：適用于半導(dǎo)體、聚合物等多種材料。

　　低成本：無(wú)掩膜制作成本，適合研發(fā)和小批量生產(chǎn)。

　　廣泛應(yīng)用：用于微電子、MEMS、光學(xué)器件等制造領(lǐng)域。

　　技術(shù)參數(shù)：

　　1、工作波長(zhǎng)：405nm

　　2、激光功率

　　較大功率：300mW

　　3、分辨率

　　最小分辨率：0.3μm

　　4、對(duì)準(zhǔn)精度

　　正面：0.1μm(1mm區(qū)域內(nèi))，側(cè)面：1μm(2.5μm)

　　5、掃描速度

　　3-150 mm2/min

　　6、轉(zhuǎn)盤(pán)尺寸

　　較大8英寸